核心技術與性能特點

• 塞曼穩頻雙頻激光技術：采用兩倍頻率的氦氖激光系統，通過縱向磁場使氖原子能級分裂，實現雙頻輸出，頻率穩定性高，為干涉儀提供高精度、高重復性的測量基準。

• 高分辨率與測量速度：配合干涉儀系統可實現最小讀取分辨率 0.3nm 的位移測量；高分頻頻率設計支持最高 1.0m/sec 的測量速度，兼顧精度與效率。

• 多軸擴展能力：光學產品相互兼容，最多可支持 6 軸同步測量（搭配 6 臺干涉儀與 6 個探測器），適配多自由度精密平臺的定位與校準需求。

• 廣泛應用適配：專為晶圓 / FPD 步進曝光機、電子束設備、IC 檢查設備、超精密工作機等場景設計，也可用于機床精度管理、光學硬件檢測等工業領域。

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典型應用場景

• 半導體制造設備（曝光機、光刻機）的位移與定位精度校準

• 精密機床、加工中心的線性、角度、平面度誤差檢測

• 光學元件、精密平臺的位移測量與振動分析

• 科研與工業領域的高精度長度計量與位置反饋系統