日本 JFE 推出的 FiDiCa H 系列 FDC-H1510，是專為實驗室與中小規模研發場景打造的桌面型高分辨率膜厚分布測量裝置，兼顧晶圓級全域掃描與局部高精度檢測，以緊湊設計實現納米級精度，是半導體器件、光學元件等精密膜層研發與質量驗證的理想工具。

這款設備支持 100 納米至 10 微米的膜厚測量范圍，適配 SiO?、光刻膠、鈍化層等多種半導體膜層。它既可以完成 6 英寸晶圓的全域掃描，約 20 萬點數據采集可在 10 分鐘內完成，也能實現約 3mm 角的局部測量，僅需 30 秒即可完成關鍵區域的快速驗證。設備的空間分辨率可達約 5 微米，能精準捕捉微小膜厚偏差，同時重復再現性達 3σ<1.0 納米，以穩定的精度為工藝驗證提供可靠數據。

FDC-H1510 采用桌面型緊湊設計，設備尺寸僅為寬 500× 深 620× 高 280 毫米，無需復雜安裝即可投入使用，適配實驗室、研發中心等空間有限的場景。它的主要用途是設備圖案上的膜厚分布測量，可廣泛應用于半導體晶圓制造、先進封裝工藝、光學涂層與鍍膜元件的均勻性驗證，為材料研發、工藝優化提供高效精準的檢測支持。