產品資料
美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀
產品名稱: 美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀
產品型號: He-Ne 雙頻
產品特點: 美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀采用塞曼效應穩頻雙頻 He-Ne 激光，最小分辨率 0.3nm，適配半導體設備與超精密機床，是高精度位移測量的核心設備。
美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀 的詳細介紹
美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀，依托美國 EXCEL PRECISION 的雙頻 He-Ne 激光技術，是專為半導體設備、超精密機床開發的高精度激光干涉儀測量系統，憑借塞曼效應穩頻原理，實現了 0.3 納米級的位移測量分辨率，成為晶圓步進曝光機、精密測量儀、超精密工作機等設備的核心定位組件。
設備采用兩倍頻率的氦氖激光系統，通過對激光管施加縱向磁場，利用塞曼效應使氖原子能級分裂為兩個等間隔頻率，頻率差與磁場強度成比例偏移，從而實現高頻率穩定性與測量再現性。高分頻頻率設計讓測量速度可達 1.0m/sec（取決于分辨率），滿足高速運動平臺的實時位移反饋需求。系統支持最多 6 軸同步測量，可搭配 6 個干涉儀與 6 個探測器，實現多軸聯動設備的同步校正與定位。
1100B 六要素校正系統可一次性檢測并數據化最大 5 個要素的桌面間隙，廣泛應用于機床的精度管理，幫助用戶快速識別設備誤差、優化運動精度。設備整體采用緊湊化設計，激光頭本體尺寸僅 355×132×116mm，可輕松集成到各類精密設備中；光學產品相互兼容，支持與干涉儀及相關檢測、光學硬件的配套使用，適配晶圓 / FPD 步進曝光機、電子束設備、IC 檢查產品、后端步進曝光機等多種場景。
該系統已在全球擁有超過 5000 臺的應用實績，是半導體制造、超精密加工領域的測量設備，同時支持根據用戶需求定制非標系統，為不同行業的高精度位移測量與設備校正提供可靠解決方案。
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