在半導(dǎo)體刻蝕、沉積、材料表面改性等等離子體工藝中，電子溫度、離子密度、等離子體電位等核心參數(shù)，是決定工藝穩(wěn)定性與產(chǎn)品良率的 “隱形密碼"。傳統(tǒng)監(jiān)測(cè)手段無(wú)法精準(zhǔn)量化等離子體狀態(tài)，導(dǎo)致工藝優(yōu)化難、良率波動(dòng)大，成為行業(yè)卡脖子難題。針對(duì)這一痛點(diǎn)，比利時(shí) Impedans 推出朗繆爾探針（Langmuir Probe）等離子體測(cè)量系統(tǒng)，作為等離子體診斷的 “金標(biāo)準(zhǔn)" 設(shè)備，可實(shí)時(shí)精準(zhǔn)測(cè)量等離子體全維度關(guān)鍵參數(shù)，為半導(dǎo)體、材料科研等領(lǐng)域提供可靠的工藝管控與研發(fā)支撐。

朗繆爾探針通過向探針施加掃描電壓，采集探針電流 - 電壓（I-V）特性曲線，基于等離子體物理理論反演計(jì)算，精準(zhǔn)獲取電子溫度、離子密度、等離子體電位、浮置電位、電子能量分布函數(shù)等核心參數(shù)。系統(tǒng)內(nèi)置專業(yè)射頻濾波技術(shù)，可有效抑制射頻干擾，保障高射頻等離子體環(huán)境下的測(cè)量精度，哪怕是復(fù)雜工況也能輸出穩(wěn)定可靠的數(shù)據(jù)。

該系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，支持多種法蘭接口，可快速安裝在各類真空腔室，兼容幾乎所有腔型，部署靈活不挑場(chǎng)景。搭配直觀易用的專業(yè)分析軟件，適配 Windows PC / 筆記本，界面友好，一鍵式數(shù)據(jù)采集、分析、可視化，無(wú)需復(fù)雜編程，新手也能快速上手。可選配線性驅(qū)動(dòng)空間掃描系統(tǒng)，自動(dòng)掃描晶圓 / 腔室空間，實(shí)現(xiàn)等離子體二維 / 三維空間表征，適配半導(dǎo)體工藝均勻性檢測(cè)需求。同時(shí)支持單探針、雙探針、平面、球形、馬赫探針等多種探頭，探頭頭可快速互換，適配不同工況，還提供固定軸、柔性軸等多種型號(hào)，狹小空間、特殊腔室也能輕松安裝。超 100 篇學(xué)術(shù)出版物采用該系統(tǒng)數(shù)據(jù)，被學(xué)術(shù)界廣泛認(rèn)可為可靠的等離子體測(cè)量數(shù)據(jù)源，學(xué)術(shù)級(jí)可靠性拉滿。

系統(tǒng)由機(jī)架式電子控制單元、多種規(guī)格朗繆爾探針探頭、專業(yè)分析軟件三部分組成，核心部件性能穩(wěn)定，可滿足長(zhǎng)期連續(xù)測(cè)量需求。同時(shí)支持線性驅(qū)動(dòng)空間掃描系統(tǒng)、射頻濾波增強(qiáng)模塊、多探頭自動(dòng)切換系統(tǒng)、定制化柔性軸、特殊探頭等多種拓展功能，可根據(jù)不同使用場(chǎng)景靈活配置，滿足個(gè)性化工藝需求，一臺(tái)設(shè)備覆蓋全流程檢測(cè)。

該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、科研實(shí)驗(yàn)室、材料表面處理、新能源、航空航天等多個(gè)領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造中，可用于刻蝕、沉積、清洗等等離子體工藝的參數(shù)監(jiān)控、工藝優(yōu)化、均勻性檢測(cè)；在科研實(shí)驗(yàn)室中，可用于等離子體物理基礎(chǔ)研究、新型等離子體源研發(fā)、空間等離子體模擬；在材料表面處理領(lǐng)域，可用于等離子體鍍膜、表面改性、等離子體清洗工藝的參數(shù)管控；在新能源領(lǐng)域，可用于光伏、燃料電池等領(lǐng)域的等離子體工藝研發(fā)與產(chǎn)線監(jiān)控；在航空航天領(lǐng)域，可用于空間等離子體環(huán)境模擬、航天器等離子體相互作用研究，為各行業(yè)等離子體工藝研發(fā)與質(zhì)量管控提供有力保障。