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實驗室表面處理利器！SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機，高效溫和不損傷樣品
在半導體、材料研發、精密制造等實驗室場景中，樣品表面的有機污染物、殘留雜質，一直是影響實驗精度、產品良率的關鍵問題。傳統清洗方式不僅流程繁瑣，還容易損傷敏感基材，今天給大家推薦一款專業的表面處理設備 —— 日本 SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機，用紫外光 + 臭氧 + 臺面加熱的三重作用，溫和高效去除有機污染物，適配多種基材，是實驗室表面處理的理想選擇。
一、核心原理：三重作用，溫和高效
UV-1 采用獨特的紫外光照射 + 臭氧生成 + 臺面加熱的協同作用原理：氧氣經濾塵后生成臭氧，在紫外燈照射下分解為高活性氧自由基，與樣品表面的有機物發生氧化反應，將其分解為二氧化碳和水等揮發性物質，從而實現清洗；加熱臺面可加速清洗速率，同時滿足不同工藝的溫度需求。整個過程在大氣壓下完成，無需真空系統，操作便捷，且不會產生靜電損傷，可保護 GaN、SiC 等敏感化合物半導體基材。
二、產品特色：實驗室友好型設計，安全省心
寬適配性，多基材兼容：可處理 φ100mm 基板及 4 英寸晶片，覆蓋硅、玻璃、化合物半導體（GaN、GaAs、InP、SiC）、藍寶石、陶瓷等多種基材，滿足不同實驗場景需求。
緊湊設計，節省空間：設備結構精巧，占用實驗室空間小，適合各類實驗室布局。
常壓操作，無需真空：在大氣壓下即可運行，無需搭配復雜的真空系統，降低使用門檻和維護成本。
溫和工藝，無損傷處理：全程無靜電、無機械損傷，不會破壞樣品結構，尤其適合敏感電子材料。
多重安全防護：配備上蓋連鎖機制（上蓋開啟時系統無法操作）、自動 N? purge 循環、加熱臺面保險絲保護、臭氧分解裝置、緊急停止按鈕等多重安全設計，保障操作人員安全，同時將排氣臭氧濃度降至安全標準。
臭氧無害化處理：內置臭氧分解裝置，避免臭氧排放污染，符合實驗室環保要求。
三、應用場景：覆蓋多領域實驗室需求
塑封封裝及引線框架表面清洗
化合物半導體（GaN、GaAs、InP、SiC）表面清洗
表面改質（親水性及增進附著力）
表面氧化（氧化薄層的形成）
光阻的灰化、去除、殘留清洗
去除有機污染物
UV 硬化
SAMCO 作為日本的半導體工藝設備品牌，擁有多年的設備研發經驗，產品以穩定的性能、精巧的設計，廣泛應用于各類科研實驗室、半導體研發機構。UV-1 紫外臭氧清洗機，從清洗效率到操作安全性，都做到了行業較高水平，是實驗室表面處理、樣品前處理的高效利器。
如果你正在找一款溫和高效、適配多基材、安全省心的表面清洗設備，不妨試試 SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機，讓樣品前處理更高效、更精準！
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