• 直流濺射-在兩個(gè)電極之間施加直流電壓的方法
• 射頻濺射-如何施加交流電（高頻）
• 磁控濺射-一種通過在磁體的靶側(cè)產(chǎn)生磁場(chǎng)來從樣品中分離血漿的方法。
• 離子束濺射-一種在與靶標(biāo)或樣品不同的位置產(chǎn)生離子并加速向靶標(biāo)施加的方法。

此外，還有相反的目標(biāo)，用于ECR（電子回旋加速器）和半導(dǎo)體制造的準(zhǔn)直儀以及長(zhǎng)距離方法。另外，已經(jīng)開發(fā)了用于磁控管方法的各種方法，其中改變了靶的形狀和磁體的布置。

• 必須引起輝光放電，并且設(shè)備內(nèi)部的真空度相對(duì)較低，這會(huì)受到殘留氣體的影響。具體而言，膜與氣體反應(yīng)，或者氣體被捕集在膜中。
• 氣體處于分為離子和電子的等離子體狀態(tài)，樣品也暴露于高溫等離子體中。由于溫度上升而損壞。
• 當(dāng)原料（靶）是絕緣體時(shí)，離子沉積在表面上，并且放電停止。

• 磁盤（垂直磁記錄介質(zhì)的生成）
• CD / DVD（記錄面上的金屬膜）
• 半導(dǎo)體（電路產(chǎn)生。存儲(chǔ)器[鐵電膜]，各種傳感器）
• 磁頭（用于高密度記錄的硬盤。新的使用多層膜的磁頭）
• 噴墨打印機(jī)頭
• 液晶顯示裝置（透明電極的產(chǎn)生）
• 有機(jī)EL顯示裝置（透明電極的產(chǎn)生）
• 高亮度LED
• 電子顯微鏡的樣品制備（通過導(dǎo)電膜防靜電）
• 光催化薄膜
• 分析（確定通過濺射跳過的表面物質(zhì)，而不是成膜的物質(zhì)）
• 納米機(jī)（形狀記憶合金膜）
• 在塑料和玻璃上產(chǎn)生電磁屏蔽膜