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紅外線高速加熱爐的工作原理及應用范圍

只有安裝在各種氣氛（例如超高真空或氣流）中的樣品才能通過紅外線jing確定位，以快速加熱樣品而不會發生接觸。

它可以輕松連接到真空系統或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。

	快速升溫	：gao升溫速度150℃/秒，gao1500℃約1min
	清潔加熱	：不用擔心熱源或電磁感應產生的氣體
	局部供暖	：僅用紅外線照射樣品，請勿加熱周圍環境
	可自由安裝	：可以連接到各種系統

	高速升溫和Si和SiC等樣品的退火
	氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
	在氫氣和氮氣中加熱基材
	在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
	在分析儀中加熱樣品，例如加熱的解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等。
	在磁場中加熱，在非磁場中加熱
	在加壓氣氛中加熱
	加熱樣品

　　　紅外線引入加熱裝置根據應用具有以下規格。

超高真空型	它支持　10 ^-9 Pa的超高真空。
高速升溫型	大溫度上升率可以實現150°C /秒的高速溫度上升。
常溫加熱型	對于放置在大氣中的樣品，可以進行點加熱。
加壓氣氛類型	可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
特殊功能	利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降溫，負載加熱和磁場加熱。　請隨時與我們聯系。
CE標志合格	我們還生產符合CE標志的規范。

原理圖

　超高真空型GVH

型號名稱	GVH198	GVH298
紅外燈額定值	1千瓦	2千瓦
gao溫度	1200℃	1400℃
受熱面	φ20毫米
大加熱速度	1℃/秒
大極限真空	5×10 ^-9帕
冷水量	1升/分鐘	2升/分鐘

　高速升溫型GV / GVL

型號名稱	GV154	GV198	GVL298	GVL398
紅外燈額定值	500瓦	1千瓦	2千瓦	3千瓦
gao溫度	1100℃	1300℃	1500℃	1600℃
受熱面	φ14毫米	φ20毫米
大加熱速度	100℃/秒	100-150℃/秒
大極限真空	5×10 ^-7帕
冷水量	1升/分鐘		2升/分鐘

　加壓氣氛類型GVP

型號名稱	GVP198	GVP298
紅外燈額定值	1千瓦	2千瓦
gao溫度	1200℃	1300℃
受熱面	φ20毫米
大加熱速度	100℃/秒
大耐壓	1MPa以下
冷水量	1升/分鐘	2升/分鐘

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