日本DENSOKU電測QNIx系列

更容易測量麻煩的薄膜厚度
便攜式薄膜厚度計，提高生產效率

QNIx系列產品只需一個超輕便的緊湊型儀器和探頭即可測量薄膜厚度，無需攜帶厚膜厚度計。
無線測量無電纜。 測量數據可以很容易地傳輸到個人計算機，并有助于防止測量期間墜落事故。

QNIx系列的特點
無需膠片校準即可測量薄膜厚度

提供出廠時輸入的16點校準數據。這消除了對麻煩的膠片校準工作的需要并且能夠進行的膜厚度測量。

薄膜厚度測量數據傳輸的新技術

傳統的測量儀器通過將測量儀器和PC與電纜連接來傳輸測量數據。 QNIx系列使用“無線Dongle”，只需將其插入USB端口即可進行傳輸。可以快速輕松地查看測量數據。

超輕型無線測量儀器

探頭測量的數據無線傳輸到主機。降低像常規產品一樣被抓住或妨礙并導致事故的風險。此外，探頭重30克，無需攜帶重型儀器。

探頭難以斷裂，不會在工件上留下痕跡

QNIx系列探頭被增強塑料包圍，耐用性提高了30％。即使它發生故障，也可以輕松拆卸和維修，縮短維修周期。此外，還附有紅寶石芯片，可在不損壞樣品（樣品）的情況下進行安全測量。

便攜式薄膜厚度計型號代碼指導

[F]黑色金屬材料的非磁性薄膜厚度測量

[N]對有色金屬材料的非導電薄膜厚度測量

[FN]使用單個探針測量黑色和有色金屬材料的薄膜厚度

[T]微探針

[M]測量數據存儲功能，數據傳輸到PC

日本DENSOKU電測Beta線膜厚度計BTC-221

從薄到厚
新系統，可實現高精度測量

·使用個人計算機大大提高了可操作性和功能。
·高精度地測量薄到厚的物體
·也可以測量小面積
·輕松編程特殊校準曲線
·計數校正很容易，不需要GM管預熱

β線膜厚度計BTC-221的特點
大大提高了可操作性和功能

使用個人計算機可以大大提高可用性和功能。

從薄到厚的物體測量，精度高

通過改變輻射源，可以高精度地從薄物體到厚物體進行測量。

可以測量小面積

可以通過更換面罩來測量小面積。有各種口罩可供選擇。

輕松編程特殊校準曲線

可以進行多點校準輸入（2到9個點），并且可以輕松編程特殊校準曲線。

輕松計數校正

可以隨時進行計數校正，并且可以在不加熱GM管的情況下進行高精度測量。

多可存儲40條用于測量的校準曲線

多可存儲40條用于測量的校準曲線。存儲的校準曲線可以復制到其他通道。

校準曲線可以通過材料的單點校正進行重新校準

校準曲線可以通過材料的單點校正進行重新校準。

設置上限和下限

您可以設置有效測量值的上限?6?7?6?7和下限。

測量膜厚度和組成比

合金膜可以測量膜厚度和組成比。

可以在直徑為80mm或更大的管道中進行測量

如果φ80mm或更大，則可以在管道中進行測量。

可以隨時刪除由于測量誤差導致的薄膜厚度值

可以隨時刪除由測量誤差引起的膜厚值。

時間和單位可以任意設定

測量時間可以任意設置1至999秒。可以隨時更改測量單位，μm，MI，mil，成分％和計數％，并自動轉換測量值。

測定原理

當物質被β射線照射時，其部分被吸收并且其一部分被透射。 有些是透明的。 一些向后散射，劑量根據材料的厚度和外來電子的數量（電子數量）而變化。 由于隨著厚度增加直到其達到不能檢測到劑量增加的飽和厚度，反向散射量增加（或減少），所以可以通過比較基板的反向散射量與涂層的反向散射量來測量厚度。你。
因此，隨著基板和涂層之間的原子序數的差異增加，測量精度增加，并且隨著原子序數的差異減小，測量精度降低。 如果原子序數差至少為10％，則可以測量薄膜。

日本DENSOKU電測電阻膜厚度計RST-231

操作簡單，時間短（0.7秒）

高精度測量絕緣體上的金屬薄膜

·在0.7秒內測量絕緣體上的金屬膜
·使用PC輕松查看屏幕
·易于校準和測量
- 可以立即查看組件圖和配置文件
·異常值檢測功能

電阻膜厚度計RST-231的特點
在0.7秒內測量絕緣體上的金屬膜

在短時間（0.7秒）內高精度地測量絕緣體上的金屬膜（絕緣銅箔，電鍍等）。

易于閱讀的屏幕配置

使用PC時，屏幕結構大而明亮，易于查看。

易于校準和測量

易于校準和測量。可以選擇兩種類型的測量范圍（2至24μm，10至120μm）。

可以立即看到各種數字

統計處理后，立即可以使用直方圖，配置文件和x-R圖表。

異常值檢測功能

如果設置上下薄膜厚度限制，將通知您異常值。

支持每個探頭的更換

如果探頭損壞，可以更換每個探頭，并且可以低成本進行維修。

易于統計處理

可以為每個通道保存測量數據，并且可以稍后為測量數據設置統計項以執行統計處理。

多可注冊40個頻道

多可注冊40個通道，因此您可以通過用戶名或部件號單獨注冊來管理通道。

支持每個探頭的更換

使用四探針探針（開爾文型），并且可以高精度地測量雙面和多層基板，而不受背面和內層的影響。

 

測定原理

探頭有四個直立的金屬銷（探頭）。使這四個探針與待測量的絕緣體上的金屬箔或金屬電鍍表面接觸。 恒定電流（I）通過兩個外部探針并測量電壓（V）。 接觸探針的金屬箔或金屬鍍層的厚度（T）可以在某些條件下使用下式計算。T = K×I÷V其中K是常數因此，可以通過測量兩個內探針之間的電壓來測量金屬箔或金屬鍍層的厚度。

日本DENSOKU渦流膜厚度計D-20

小巧便攜
薄膜厚度計，可以滿足短時間測量的時代需求

·重量輕，結構緊湊，重量為2.0kg
·一旦開關打開，測量就開始，測量時間在1秒之內。
·晶體振蕩法具有高穩定性（±1％）和高精度
·非破壞性，100％檢查是可能的
·由于直接閱讀，無需轉換

渦流膜厚度計D-20的特點
輕巧緊湊

你可以攜帶它。

可立即測量

可以在開關打開的同時進行測量。測量時間也在1秒內。

高穩定性（±1％）高精度

通過晶體振蕩方法具有高穩定性（±1％）和高精度。

可以100％檢查

100％檢查是可能的，因為它是非破壞性的。

無需轉換

不需要直接轉換。

兼容各種測量

可以在金屬上測量薄膜，電鍍，涂漆，樹脂等（例如：在鋁上鍍氧化膜，在鐵上鍍鋅等）。

成為的測量儀器

只需更換刻度盤，它就成了的測量儀器。

測量面積3m2以上

兼容3m2或更大的測量區域。

還測量非金屬上的金屬膜

可以測量非金屬上的金屬薄膜（例如塑料上的鍍層）。

即使在曲面，球體和管道內也可以進行測量

即使對于彎曲和球形表面也可以進行測量。它還可以測量管道的內表面（φ12.7mm或更大）。

測定原理

當已經通過高頻電流的探針（測量線圈）接近金屬時，在金屬表面層中產生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場的強度和頻率，金屬的導電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。
渦電流流動以抵消探頭的高頻磁場，因此探頭的高頻電阻發生變化。 這種高頻電阻的變化被放大并顯示在儀表上。 通過這樣做，可以從儀表的波動中讀取膜厚度值。 薄膜厚度值和儀表跳動通常不成比例，因此使用直讀刻度板直接讀取薄膜厚度值。

日本DENSOKU渦流膜厚度計DS-110

晶體振蕩精度高
可以在短的測量時間內測量曲面和球面

·測量值顯示數字且易于閱讀
·一旦開關打開，測量就開始，測量時間在1秒之內。
·晶體振蕩法具有高穩定性（±1％）和高精度
·非破壞性，100％檢查是可能的
·由于直接閱讀，無需轉換

渦流膜厚度計DS-110的特點
易于閱讀數字

測量值顯示是數字的，易于閱讀。

可立即測量

可以在開關打開的同時進行測量。測量時間也在1秒內。

高穩定性（±1％）高精度

通過晶體振蕩方法具有高穩定性（±1％）和高精度。

可以100％檢查

100％檢查是可能的，因為它是非破壞性的。

無需轉換

不需要直接轉換。

兼容各種測量

可以測量金屬上的薄膜，電鍍，涂層，樹脂等。 （例如：在鋁上鍍鋅，在鐵上鍍鋅等）

多可保存1000個數據

可以使用一條檢測線保存1000個數據。

還測量非金屬上的金屬膜

可以測量非金屬上的金屬薄膜（例如塑料上的鍍層）。

可以測量4種標準和多70種薄膜厚度。

通過切換開關，可以測量多達4種類型的薄膜厚度。此外，通過更換制造商處的檢查線，可以測量超過70種類型的膜厚度。

即使在曲面，球體和管道內也可以進行測量

即使對于彎曲和球形表面也可以進行測量。它還可以測量管道的內表面（φ12.7mm或更大）。

打印輸出功能

打印出測量數據和統計處理值

測定原理

當已經通過高頻電流的探針（測量線圈）接近金屬時，在金屬表面層中產生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場的強度和頻率，金屬的導電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。
渦電流流動以抵消探頭的高頻磁場，因此探頭的高頻電阻發生變化。 高頻電阻值的這種變化被放大，曲線校正，并顯示為數字值。 因此，膜厚度值可以直接讀取為數字。 通過微計算機計算執行曲線校正。 因此，它非常準確且高度穩定

日本DENSOKU渦流膜厚度計DMC-211

高速和可操作性
短時非破壞性測量是100％檢測的理想選擇

·1秒內無損測量，100％檢測
·使用個人計算機輕松校準和測量操作
·只需將探頭放在物體上并釋放它，即可自動捕獲測量值
-70特性曲線（校準曲線）作為標準
·為每個渠道注冊公司名稱，部件號和批號。

渦流膜厚度計DMC-211的特點
數字顯示測量值，讀數

幾乎所有金屬薄膜（鋁上的氧化膜，鐵上的鋅/鉻鍍層等），非金屬上的大多數金屬薄膜（塑料上的電鍍等）在短時間內（1秒內）無損測量，非常適合100％檢測。

使用PC輕松操作

通過使用個人計算機進行校準和測量等簡單操作。可以選擇各種測量模式，便于測量螺釘頭，線材和壓鑄產品等小零件。

配備[自動導入]模式

在[自動采集]模式下，只需將探頭放在待測物體上并松開即可自動獲取測量值。

豐富的特征曲線記憶（校準曲線）

70個自動選擇特性曲線（校準曲線）作為標準存儲。對于特殊材料，如果有標準板，則可以創建并輸入新的特征曲線（校準曲線）。

公司信息渠道注冊功能

可以為每個渠道注冊公司名稱，部件號和批號。
總頻道：40個頻道

配備統計處理功能

可以為每個通道保存測量數據，并且可以在以后統計設置和統計統計項目。

計量單位

測量單位是mm，μm，mil，MI。
可以隨時更改設備，并自動轉換測量值。

測定原理

當已經通過高頻電流的探針（測量線圈）接近金屬時，在金屬表面層中產生渦電流。 該渦電流受到高頻磁場的強度和頻率，金屬的導電性，厚度和形狀的影響，并且穿透深度和尺寸變化。渦電流流動以抵消探頭的高頻磁場，因此探頭的高頻電阻發生變化。 這種高頻電阻變化的幅度通常與薄膜厚度值不成比例，因此它會根據內部或用戶創建的特性曲線（校準曲線）轉換為薄膜厚度值并顯示在PC屏幕上。顯示量。

日本DENSOKU電測電解式膜厚計CT-3

重量輕，機身小巧

各種電鍍測量的高可操作性和功能性

·輕巧，緊湊的機身，體重3.0kg
·可從任何電鍍范圍測量
·增加了高靈敏度范圍
·校準范圍寬達±15％
·C墊片范圍的標準設備

電解膜厚度計CT-3的特點
輕巧緊湊

輕巧，極其緊湊的機身，體重3.0kg。

增加了高靈敏度范圍

靈敏度可以設置為比以前的型號更高的靈敏度，并且可以提高測量穩定性。

廣泛的校準范圍

通過標準板校準的校準范圍寬達±15％。

可以達到1/100的范圍

可以處理Au，Cr等的薄膜電鍍的1/100范圍（以0.001μm為單位的測量）是可能的。

三種類型的墊圈范圍是標準設備

有三種類型的墊圈可供選擇：3.4φ，2.4φ和1.7φ。

主動功能

有源功能可以去除一些氧化膜，從而減少氧化膜引起的測量失敗
我能做到

易于設置范圍

由于使用了所有刻度盤設置，因此可以輕松實現要測量的鍍層的適合設置。

日本DENSOKU電測電解式膜厚計CT-4

0.006至300微米，各種厚度
多層電鍍測量，精度高

·易于操作，易于閱讀的屏幕
·電流精度明顯高于以前
·可以確認測量部件的表面處理方法
·多層涂層可設置多達5種測量條件
·多可注冊50個測量通道

電解膜厚度計CT-4的特點
易于操作，易于閱讀的屏幕

屏幕大，明亮，易于查看，易于操作。

提高電流精度

目前的準確度已得到顯著改善。

可以檢查表面處理方法

您可以檢查測量部件的表面處理方法。

測量條件多可設置為5層

多層涂層可以設置多達5種測量條件。

多可注冊50個頻道

多可以注冊50個測量通道。

可分別測量純錫層和合金錫層

對于純錫層和合金錫層，可以分別測量鍍錫。

自動顯示所用電解質的類型

所用電解質的類型根據薄膜和基材的組合自動顯示。

內置統計處理功能

通過統計處理功能，可以在屏幕上顯示數據。

5種數據處理方法

有五種數據處理方法。

用日文打印

打印機使用熱敏卷紙，可以用日文打印。

每單位面積的重量計算

您可以計算每單位面積的重量。

日本DENSOKU電測電解式膜厚計GCT-311

Windows規范，
全功能可測量多達5層

·使用個人計算機，操作簡單，功能增強
- 使用Windows規范輕松處理數據
·多可注冊50個測量通道
·多層涂層可設置多達5種測量條件
·發生異常值時，以紅色和警告聲音報告測量值。

電解膜厚度計GCT-311的特點
改進了可操作性和增強功能

使用個人計算機可改善可操作性和功能。

輕松的數據處理

使用Windows規范可以輕松進行數據處理。

多可注冊50個頻道

多可以注冊50個測量通道。

多層涂層，多5層

多層涂層可以設置多達5種測量條件。

發生異常值時內置警告功能

當由于上限和下限設置而發生異常值時，測量值將顯示為紅色并顯示警告聲。

自動顯示所用電解質的類型

所用電解質的類型根據薄膜和基材的組合自動顯示。

輕松確認顯示處理方法

您可以檢查測量單元的顯示處理方法。

可分別測量純錫層和合金錫層

對于純錫層和合金錫層，可以單獨測量“錫/銅”測量。

輕松測量雙鎳和三鎳之間的電位差

通過使用參比電極（可選）和電位圖測量，可以容易地測量雙鎳和三鎳之間的電位差。

日本DENSOKU電測X射線熒光膜厚度計COSMOS-3X

節省空間小
極小的部件，具有出色的可操作性
以高精度測量

·使用雙重濾波器，以高精度和適合條件進行測量
- 即使在使用多任務功能進行測量期間，也可以進行其他處理，包括創建報告。
·小準直器為0.05mm，可以測量極小的部件

X射線熒光膜厚度計COSMOS-3X的特點
采用雙濾波器

除數字濾波器外，還可以使用機械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進行測量，以便始終獲得高精度。

增強的報告創建功能

通過采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測量屏幕并增強報告創建功能。多任務功能可以啟用其他過程，包括在測量期間創建報告。

內置5種準直器

準直器的小部分為0.1φmm，可以測量極小的部件。標準，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護功能

自我診斷功能迅速處理設備故障解決。此外，它還通過添加顯示X射線管的使用時間和耐久時間的功能來支持維護安全性。

薄膜厚度測量期間的光譜顯示

通過多通道的頻譜分析的高速處理，通過簡單的操作來執行被測對象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測量單位的監視圖像

將X射線照射單元導入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實現放大倍率變化功能，通過準直器改變尺寸。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們為熒光X射線膠片厚度計EX-731準備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過使用此選項，可以在Cr測量和Ni測量中重復測量精度
將大大改善。

關于績效改進的評論

高能量（高原子序數）Sn測量與以前相同，但能量低（原子序數低）

No。）在Cr和Ni測量的情況下，根據膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測量中，一點點
由于精度提高的貢獻，層間Ni已經提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計
在重復測量精度（標準偏差）的情況下，獲得產生熒光X射線強度的過程。
這是由于統計波動，并應用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強度比傳統的標準機器高約9倍。
有你。因此，可以在短時間內執行與之前相同精度的測量。






 

日本DENSOKU電測X射線熒光膜厚度計EX-731

以高精度測量極小部件，具有出色的可操作性
可以測量大尺寸的基礎

·使用雙重濾波器，以高精度和適合條件進行測量
- 通過將鼠標定位在測量位置來實現快速定位
- 即使在使用多任務功能進行測量期間，也可以進行其他處理，包括創建報告。
·小準直器為0.05mm，可以測量極小的部件

X-7熒光膜厚度計EX-731的特點
采用雙濾波器

除數字濾波器外，還可以使用機械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進行測量，以便始終獲得高精度。

自動測量階段

通過將鼠標移動到測量位置來實現快速定位。此外，如果您注冊測量位置，則可以進行連續自動測量。通過坐標校正和通道鏈接支持各種模式。標準板校準也可以自動測量。

增強的報告創建功能

通過采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測量屏幕并增強報告創建功能。多任務功能可以啟用其他過程，包括在測量期間創建報告。

內置5種準直器

準直器的小部分為0.1φmm，可以測量極小的部件。標準，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護功能

自我診斷功能迅速處理設備故障解決。此外，它還通過添加顯示X射線管的使用時間和耐久時間的功能來支持維護安全性。

薄膜厚度測量期間的光譜顯示

通過多通道的頻譜分析的高速處理，通過簡單的操作來執行被測對象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測量單位的監視圖像

將X射線照射單元導入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實現放大倍率變化功能，通過準直器改變尺寸。

目測顯示被測物體的鍍層附著力分布

使用3D圖形顯示可以一目了然地看到被測物體的鍍層厚度分布。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們為熒光X射線膠片厚度計EX-731準備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過使用此選項，可以在Cr測量和Ni測量中重復測量精度將大大改善。

關于績效改進的評論

高能量（高原子序數）Sn測量與以前相同，但能量低（原子序數低）

No。）在Cr和Ni測量的情況下，根據膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測量中，一點點
由于精度提高的貢獻，層間Ni已經提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計
在重復測量精度（標準偏差）的情況下，獲得產生熒光X射線強度的過程。
這是由于統計波動，并應用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強度比傳統的標準機器高約9倍。
有你。因此，可以在短時間內執行與之前相同精度的測量。
請考慮采用這種Be窗口X射線管。

日本DENSOKU電測X射線熒光膜厚度計EX-851

自動對焦
可以選擇兩種測量模式，使測量工作更加順暢

全自動對焦模式
⇒用激光指示器設置要照射的物體并關閉門。
舞臺自動移動和測量。
·半自動對焦模式
⇒以與上面的全自動對焦模式相同的方式設置測量對象。
¡當門關閉時，舞臺自動移動并聚焦。
直到手術。

X-8熒光膜厚度計EX-851的特點
自動對焦

只需將測量部件移動到激光指示器的位置，然后關閉門以自動移動到測量值并執行測量。測量后，當門打開時，舞臺自動返回到前面。

自動測量階段

通過將鼠標移動到測量位置來實現快速定位。此外，如果您注冊測量位置，則可以進行連續自動測量。通過坐標校正和通道鏈接支持各種模式。標準板校準也可以自動測量。

采用雙濾波器

除數字濾波器外，還可以使用機械濾波器（雙濾波器）在適合條件下進行測量，以便始終獲得高精度。

增強的報告創建功能

通過采用MS-Windows軟件，您可以輕松捕獲測量屏幕并增強報告創建功能。多任務功能可以啟用其他過程，包括在測量期間創建報告。

內置5種準直器

準直器的小部分為0.1φmm，可以測量極小的部件。標準，0.1,0.2,0.5,1.0,2.0
此外，還有兩種特殊規格可供選擇。
·0.05,0.1,0.2,0.3,0.5
·0.05×0.5,0.5×0.05,0.1,0.2,0.5

自診斷功能和X射線管維護功能

自我診斷功能迅速處理設備故障解決。此外，它還通過添加顯示X射線管的使用時間和耐久時間的功能來支持維護安全性。

薄膜厚度測量期間的光譜顯示

通過多通道的頻譜分析的高速處理，通過簡單的操作來執行被測對象的頻譜顯示。 （處理速度約2-3秒）

顯示測量單位的監視圖像

將X射線照射單元導入Windows屏幕并顯示X射線照射單元。實現放大倍率變化功能，通過準直器改變尺寸。

目測顯示被測物體的鍍層附著力分布

使用3D圖形顯示可以一目了然地看到被測物體的鍍層厚度分布。

 使用Be window X射線管（可選）提高性能（高精度）

我們為熒光X射線膠片厚度計EX-731準備了Be窗口X射線管（可選）。

是的。通過使用此選項，可以在Cr測量和Ni測量中重復測量精度將大大改善。

關于績效改進的評論

 高能量（高原子序數）Sn測量與以前相同，但能量低（原子序數低）

No。）在Cr和Ni測量的情況下，根據膜厚度，Cr為3倍或更多，Ni為2倍或更多。
返回精度得到了提高。在用于表面層的Au的情況下，在兩層測量中，一點點
由于精度提高的貢獻，層間Ni已經提高了約20％。 X射線熒光膜厚度計
在重復測量精度（標準偏差）的情況下，獲得產生熒光X射線強度的過程。
這是由于統計波動，并應用Be窗口X射線管（可選）
在Cr的情況下，它表明熒光X射線強度比傳統的標準機器高約9倍。

因此，可以在短時間內執行與之前相同精度的測量。
請考慮采用這種Be窗口X射線管。